堅(jiān)膜烘箱,真空堅(jiān)膜烤箱用于半導(dǎo)體制造中半導(dǎo)體襯底片、硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料顯影后堅(jiān)膜烘烤;也適用于涂膠前的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤以及電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門。
堅(jiān)膜烘箱,真空堅(jiān)膜烤箱的用途:
堅(jiān)膜烘箱用于半導(dǎo)體制造中半導(dǎo)體襯底片、硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料顯影后堅(jiān)膜烘烤;也適用于涂膠前的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤以及電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門。
1、*蒸發(fā)掉光刻膠里面的溶劑(以免在污染后續(xù)的離子注入環(huán)境,例如DNQ酚醛樹脂光刻膠中的氮會(huì)引起光刻膠局部爆裂);
2、以提高光刻膠在離子注入或刻蝕中保護(hù)下表面的能力;
3、進(jìn)一步增強(qiáng)光刻膠與硅片表面之間的黏附性;
4、進(jìn)一步減少駐波效應(yīng)。
堅(jiān)膜烘箱,真空堅(jiān)膜烤箱主要參數(shù):
潔凈度:百級;
電源電壓:AC 220V±10%/50Hz±2%
輸入功率:2000W
溫度范圍:RT+10℃-250℃
溫度分辨率:0.1℃
溫度波動(dòng)度:±0.5℃
達(dá)到真空度:133Pa(可選擇熱風(fēng)循環(huán)烤箱)
工作室尺寸(mm):450*450*450
擱板層數(shù):2層
設(shè)備采用先進(jìn)成熟的設(shè)計(jì)思想,制造技術(shù)。
設(shè)備在具有優(yōu)良的品質(zhì),即可靠性要高,使用壽命長。
設(shè)備具有良好的操作性,方便的維修性,可靠的安全性。
使用注意事項(xiàng):
1、烘烤不足,會(huì)減弱光刻膠的強(qiáng)度(抗刻蝕能力和離子注入中的阻擋能力);降低針孔填充能力;降低與基底的黏附能力。
2、烘烤過度,引起光刻膠的流動(dòng),使圖形精度降低,分辨率變差。