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HMDS預處理系統(tǒng)報價它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。
HMDS預處理系統(tǒng)報價
1. 工作室尺寸 300×300×300，450×450×450，550×650×550（mm）可自定
2.材質(zhì)外箱采用304不銹鋼/冷軋板噴塑，內(nèi)箱采用316L醫(yī)用級不銹鋼
3.溫度范圍 RT+10-250℃
4. 溫度分辨率 0.1℃
5. 溫度波動度 ≤±0.5℃
6. 真空度 ≤133pa（1torr）
7. 潔凈度 class 100，適用100級光刻間凈化環(huán)境
8.真空泵 旋片式油泵/干泵
9.控制儀表 人機界面
10.擱板層數(shù) 2層
HMDS預處理系統(tǒng)報價
在半導體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅胺)可以很好地改善這種狀況。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。
