HMDS真空系統 HMDS預處理系統 圖像反轉烘箱可快速、均勻、經濟高效地用六甲基二硅烷 (HMDS) 對晶圓表面進行底漆處理，從而改善光刻膠的附著力。
HMDS真空系統 HMDS預處理系統 圖像反轉烘箱用途
二合一真空腔體帶來更低的成本、更高的效率和更可靠的工藝。先進的溫控、工藝時間和腔體尺寸控制系統讓您用更少的化學品，實現對沉積過程環境的掌控。
智能型HMDS真空系統可快速、均勻、經濟高效地用六甲基二硅烷 (HMDS) 對晶圓表面進行底漆處理，從而改善光刻膠的附著力。
有效的光刻膠處理是后續所有工藝步驟的基礎，只有被處理的表面才能準確復制，避免蝕刻不足或邊緣粗糙。JS-HMDS系列真空系統可脫水晶圓，使HMDS 層附著力更強，即使暴露于大氣濕氣數周也能保持穩定。
智能型HMDS真空系統 HMDS預處理系統特點
通過使用六甲基二硅氮烷（HMDS）對晶圓表面進行快速、均勻、且成本效益高的硅烷化處理，有效增強了與光刻膠的粘合性。
真空鍍膜技術能脫水晶圓，確保了更強的粘接強度。
即便長時間暴露于潮濕的空氣中，HMDS層也能維持其穩定性。
我們的先進控制系統支持用戶根據需要選擇溫度、處理時長及腔室尺寸。
此外，我們的技術還能降低化學物品的使用量和成本，實現經濟效益。
通過工藝處理，達到圖像反轉效果，解決了圖像反轉光刻膠的復雜性。
HMDS真空系統 HMDS預處理系統 圖像反轉烘箱參數
設備型號：JS-HMDS90AI
工作室尺寸（mm）： 450×450×450，650*650*650,可自定
材質：外箱采用優質冷軋板噴塑或不銹鋼，內箱采用316L醫用級不銹鋼
溫度范圍：RT+10-200℃
溫度分辨率：0.1℃
溫度波動度：≤±0.5
真空度：1torr
潔凈度：設備采用無塵材料，適用100級光刻間凈化環境
控制儀表：人機界面
擱板層數：2層
HMDS控制:可控制HMDS藥夜添加量
真空泵：旋片式油泵或干泵
保護裝置:HMDS藥液泄漏報警裝置，HMDS自動添加，超溫保護，漏電保護，過熱保護
