HMDS烤箱，HMDS真空烘箱的由來
半導(dǎo)體工藝中需要在各種襯底上進(jìn)行光刻膠涂布，黏附性是否良好是最大的問題。黏附差導(dǎo)致嚴(yán)重的側(cè)面腐蝕，線條變寬，甚至有可能導(dǎo)致圖形全部消失，濕法刻蝕技術(shù)要求光刻膠與下面的襯底有很好的黏附性。
提高光刻膠與襯底之間的黏附力有多個步驟：
a、涂膠前進(jìn)行脫水堅(jiān)膜;
b、使用黏附促進(jìn)劑，即HMDS(六甲基二硅烷)增粘劑氣相涂布;
c、高溫后烘。
完成以上工藝僅用我司生產(chǎn)的HMDS真空烘箱即可。
HMDS烤箱，HMDS真空烘箱
溫度范圍：RT+10-250℃
真空度：≤133pa（1torr）
控制儀表：人機(jī)界面，一鍵運(yùn)行
儲液瓶：HMDS儲液量1000ml
真空泵：無油渦旋真空泵
HMDS真空烘箱也稱為智能型HMDS真空系統(tǒng) 將HMDS氣相沉積至半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料表面后，經(jīng)系統(tǒng)加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。
