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配有HMDS氣體檢測的HMDS烘箱
HMDS烘箱用于光刻前基板的疏水性處理工藝。它是將HMDS(六甲基二硅胺烷)通過氣相沉積的方法均勻的涂布在基底表面,使基底表面接觸角增大,基底表面由親水性變?yōu)槭杷?,就會增強光刻膠的粘附性。避免了顯影后光刻膠漂膠、裂膠的不良現(xiàn)象。
但是HMDS具有一定的傷害性,大量吸入會刺激與灼傷鼻子與呼吸道器官系統(tǒng),會產(chǎn)生頭痛、呼吸困難、呼吸急銷遲促、咳嗽以及眼睛紅腫并感到眼睛來自刺痛與灼傷。所以,在使用過程中的安全性不容忽視。
我司HMDS烘箱 不同的設(shè)計原理,使得整個工藝過程都在密閉的回路中完成,并有效排出殘余氣體,同時具有HMDS實時監(jiān)測功能,具有泄露報J提示音。
溫度范圍:RT+10-200℃
真空度:≤1torr
操作方式:一鍵運行
真空泵:無油渦旋真空泵
容積:40L/90L/210L,可定制
產(chǎn)品兼容性:2~12寸晶圓及碎片、方片等
適用行業(yè):MEMS、濾波、放大、功率等器件,晶圓、玻璃、貴金屬,SiC(碳化硅)、GaN(氮化鎵)、ZnO(氧化鋅)、GaO(氧化鎵)、金剛石等第三代半導體材料。