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HMDS烘箱結構,HMDS涂布機原理
HMDS,即六甲基二硅胺,是半導體光刻工藝中一種常見的耗材。HMDS是一種易揮發(fā)的化學品,傳送到工藝腔的HMDS是以氣態(tài)形式存在的,其均勻附著在晶圓表面,形成HMDS膜層。
HMDS烘箱結構,HMDS涂布機原理
現(xiàn)有技術中,涂布過程一般先在氮氣的保護下對晶圓進行加熱,同時通入HMDS進行涂布,但由于前期氮氣的通入,為了保證HMDS的濃度及擴散效果,必須增加HMDS的通入量,才能使其濃度達到一定范圍,這樣勢必造成HMDS的浪費,且HMDS為有害氣體,過高濃度的排放會對環(huán)境造成嚴重破壞。
HMDS烘箱,HMDS涂布機技術參數(shù)
工作室尺寸 | 350×350×350、450×450×450、850×850×850(mm)可自定義 |
材質 | 外箱采用冷軋板噴塑或304不銹鋼,內箱采用316L醫(yī)用級不銹鋼 |
溫度范圍 | RT+10-250℃ |
真空度 | ≤133pa(1torr) |
潔凈度 | class 100,設備采用無塵材料,適用100級光刻間凈化環(huán)境 |
控制儀表 | 人機界面 |
擱板層數(shù) | 2層 |
HMDS控制 | 可控制HMDS藥夜添加量 |
真空泵 | 旋片式油泵(可選配進口無油泵) |
保護裝置 | HMDS低液位報警,HMDS自動添加,超溫保護,漏電保護,過熱保護等 |