水冷無(wú)氧化烘箱，高溫?zé)o氧烘箱升溫方式：程序線性升溫 降溫方式：風(fēng)冷+水冷輔助降溫 氧含量：氧含量≤20ppm

真空無(wú)氧烤箱，無(wú)氧化真空烘箱用于光刻膠BCB，聚酰亞胺PI/CPI固化，BPO固化，LCP纖維熱處理，

前烘氮?dú)夂嫦?，硬烘潔凈烘箱?yōu)化光刻膠的光學(xué)吸收特性，提高光刻膠對(duì)襯底的黏附性

外延片烘箱，氮?dú)鉂崈艉嫦溲悠瑢⑺鐾庋悠湃牒嫦渲?在120℃～140℃的溫度下,將所述外延片烘烤10～30分鐘

墨點(diǎn)烘箱，墨點(diǎn)氮?dú)夂嫦涫前雽?dǎo)體行業(yè)，芯片加工工藝流程中打墨點(diǎn)工藝后，將硅片放入烘箱進(jìn)行墨點(diǎn)烘干專(zhuān)用設(shè)備。

堅(jiān)膜烘箱，氮?dú)鈭?jiān)膜烤箱的作用是在一定的溫度下,對(duì)顯影后的襯底進(jìn)行烘焙。這將使光刻膠的表面在表面張力的作用下而圓滑化,并使光刻膠層中的缺陷(如針孑L)因光刻膠表面的圓滑化而減少,并可借此修正光刻膠圖形的邊緣輪廓。

無(wú)氧固化爐,高溫?zé)o氧化固化烤箱應(yīng)用半導(dǎo)體晶片、半導(dǎo)體封裝和MEMS器件的批量生產(chǎn)。主要用于PI/CPI固化，BCB固化，PBO固化，LCP纖維熱處理。