HMDS真空烤箱,MES系統(tǒng)HMDS烤箱將HMDS涂到半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?,其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。
HMDS真空烤箱,MES系統(tǒng)HMDS烤箱主要用途:
在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。
HMDS真空烤箱特點:
1、具有MES接口,可連接MES系統(tǒng);
2、有權(quán)限操作員需掃碼后才可操作此設(shè)備,且自動記錄作業(yè)人員;
3、作業(yè)時掃碼可實現(xiàn)自動調(diào)取所需作業(yè)程序,作業(yè)員只需確認是否正確;自動記錄作業(yè)累計次數(shù);
4、作業(yè)批號,作業(yè)人員,作業(yè)起止日期及時間,作業(yè)溫度曲線,作業(yè)條件,可自動生成Excel報表。
MES系統(tǒng)功能:
為企業(yè)生產(chǎn)管理人員進行過程監(jiān)控與管理、保證生產(chǎn)正常運行,控制產(chǎn)品質(zhì)量和生產(chǎn)成本提供了靈活有力的工具。
1、正確掌握在制品數(shù)量,及不良品的追蹤,降低在制品成本;
2、 用條形碼追蹤產(chǎn)品序號,提高產(chǎn)品的售后服務(wù)水平;
3、及時反應(yīng)產(chǎn)品質(zhì)量問題,追溯品質(zhì)歷史,提高產(chǎn)品治理;
4、 大幅減少現(xiàn)場手工作業(yè),提高現(xiàn)場管理人員的生產(chǎn)力;
5、充分掌握工具、設(shè)備的使用狀況,使制造資源高效運作;
6、 強大的統(tǒng)計報表為企業(yè)管理決策提供實時、準確、可靠的生產(chǎn)數(shù)據(jù),提高公司核心競爭力。
HMDS真空烤箱,MES系統(tǒng)HMDS烤箱技術(shù)指標:
1、內(nèi)部尺寸(mm):350*350*350/450*450*450/550*550*65可定制尺寸
2、 材質(zhì): 外箱采用304不銹鋼或優(yōu)質(zhì)冷軋板噴塑,內(nèi)箱采用316L醫(yī)用級不銹鋼
3、溫度范圍: RT+10-250℃
4、溫度分辨率:0.1℃
5、 溫度波動度: ≤±0.5
6 、真空度: ≤133pa(1torr)
7、 潔凈度: class 100,設(shè)備采用無塵材料,適用100級光刻間凈化環(huán)境
8、 電源及總功率:AC 220V、380V±10% / 50HZ
9、 控制儀表:人機界面
10、 擱板層數(shù):2層
11、 HMDS控制:可控制HMDS藥液的添加量
12、 真空泵:旋片式油泵或進口無油泵
13、 保護裝置: 低液位報警,HMDS藥液泄漏報警,超溫報警并斷開加熱,超溫保護,漏電保護,過熱保護等