HMDS專(zhuān)用烘箱,HMDS真空涂膠系統(tǒng)適用行業(yè):MEMS、濾波、放大、功率等器件,晶圓、玻璃、貴金屬,SiC(碳化硅)、GaN(氮化鎵)、ZnO(氧化鋅)、GaO(氧化鎵)、金剛石等第三代半導(dǎo)體材料。
HMDS蒸鍍烤箱,可程式HMDS機(jī)臺(tái)通過(guò)對(duì)烘箱預(yù)處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料預(yù)處理及相關(guān)行業(yè)
芯片HMDS預(yù)處理,可編程HMDS通過(guò)對(duì)烘箱預(yù)處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料預(yù)處理及相關(guān)行業(yè)。
HMDS烘箱,中國(guó)臺(tái)灣hmds烤箱通過(guò)對(duì)烘箱預(yù)處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。
silicon wafer HMDS烤箱,HMDS OVEN1、預(yù)處理性能更好 2、處理更加均勻 3、效率高 4、更加節(jié)省藥液 5、更加環(huán)保和安全 6、低液報(bào)警裝置 7、可自動(dòng)吸取HMDS功能 8、可自動(dòng)添加HMDS功能 9、HMDS藥液泄漏報(bào)警功能 10、HMDS緊急疏散功能 11、數(shù)據(jù)記錄打印功能